电子气体是集成电路、显示面板、LED、光伏等产业的核心材料，广泛应用于清洗、刻蚀、化学气相沉积（CVD）、离子注入等关键工艺。随着半导体技术向更小制程（如3nm以下）和更高性能发展，电子气体的纯度要求日益严苛，杂质含量需控制在ppb（十亿分之一）甚至ppt（万亿分之一）级别。
在众多纯化技术中，分子筛因其独特的微孔结构和优异的吸附性能，成为电子特种气体（ESG）纯化的关键材料。分子筛的孔径可精确调控，例如：
- 3A型（0.3 nm）：专用于深度脱除水分（H₂O），适用于易与水反应的硅烷（SiH₄）、氨气（NH₃）等气体，可将其水分含量降至ppb级以下，避免因水解生成颗粒物堵塞管路。
- 4A型（0.4 nm）：除水外还可吸附二氧化碳（CO₂），常用于高纯氮气（N₂）和氩气（Ar）的纯化，确保保护气体中O₂和CO₂含量极低，防止半导体工艺中的氧化问题。
- 13X型（1.0 nm）及改性分子筛：通过负载金属（如Cu、Ag）或表面修饰，可同时脱除O₂、CO₂、烃类（THC）及氮氧化物（NOₓ），适用于六氟化钨（WF₆）、三氟化氮（NF₃）等腐蚀性气体的纯化。
在实际应用中，分子筛常与催化净化、低温吸附等技术结合，形成多级纯化系统。例如，在NF₃纯化流程中，先通过化学吸附剂去除HF，再经13X分子筛脱除残余水分；在激光气体（如F₂/Ne混合气）净化中，改性分子筛可高效吸附烃类，保障极紫外光刻（EUV）的光学系统洁净度。
未来，随着第三代半导体（SiC、GaN）和先进封装技术的崛起，上海久宙分子筛将朝着高选择性、低粉尘、长寿命的方向发展，以满足电子气体纯化的更高要求。
发布时间: Jun-16-2025
